第651章 国家和民族等不起！（2 / 2）

“我们有了罗教授这样世界级的架构优化大师。

第四……”

他顿了顿，目光变得深邃：

“我们有必须成功的理由。国家等不起，民族等不起。”

“为此，我宣布：成立‘汉芯集团先进制程攻关委员会’。

我亲自担任主任，罗斯塔姆教授担任首席科学家。

委员会下设工艺设备、材料、集成、测试四个核心小组，

王院士担任总顾问。

从明天开始，委员会要对‘涅盘一号’从设计到量产的全过程，

进行最彻底的技术复盘和经验萃取，目标不是写报告，

而是要形成一套可复制、可推广、适用于下一代技术攻关的《极限约束下芯片制造系统优化白皮书》！”

“我们要把这次的成功，从‘偶然’变成‘必然’，从‘经验’变成‘体系’！”

“散会后，各小组负责人留下，我们连夜开第一个筹备会。”

说完，祁同伟对众人点了点头，转身走下舞台，

没有再看满桌的菜肴和美酒，径直向宴会厅外走去。背影挺拔，步伐坚定。

宴会厅里依旧安静。但气氛已经完全不同。

庆祝的欢愉迅速褪去，一种更加深沉、更加专注、带着硝烟气息的紧迫感，开始弥漫。

不知是谁先放下了酒杯，默默走向门口。

接着是第二个，第三个……

越来越多的人离开宴席，走向自己的办公室，或者实验室。

他们知道，短暂的休整结束了，新的、更加残酷的战役，已经吹响了集结号。

庆功宴，在开始后不到一小时，便草草收场。

但“汉芯”人的眼中，已经燃起了冲向八十纳米的熊熊火焰。

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接下来的一个星期，“汉芯”研发中心顶层的指挥大厅，变成了“复盘作战室”。

巨大的白板墙上不再是芯片结构图，

而是画满了复杂的流程图、因果分析图、故障树（FTA）和决策矩阵。

桌子上堆满了“涅盘一号”从第一版设计到最终流片测试的所有文档、数据记录、会议纪要甚至工程师的工作笔记。

祁同伟、罗斯塔姆、王老院士，以及从各小组抽调的精干力量，

开始了近乎“考古”般细致的复盘。

“这里，光刻对准（Overy）误差第一次超标，

当时我们采取了A方案，但效果不佳，浪费了三天。

后来是工艺组的小李提出，结合前道CMP（化学机械抛光）的数据进行联合补偿，

才解决问题。”

一位光刻工程师指着一段记录说。

“记下来。”

祁同伟对旁边的记录员说，

“关键点：跨工序数据联动补偿机制。

写进《白皮书》第三章，工艺协同优化流程。”

“还有这里，”

测试负责人调出一份数据，

“芯片在低温下的漏电突然增大，我们排查了很久，

最后发现是金属互联层的应力释放不彻底，在温度变化时导致微观裂纹。

解决方案是调整了退火曲线，增加了保温平台。”

罗斯塔姆立刻在白板上写下一串公式：

“这是热应力与扩散的耦合模型。

我们需要建立一个快速评估金属化系统热机械可靠性的简化模型，

作为设计规则检查（DRC）的一部分。”

“好！模型由罗教授牵头，一周内出初版。

写入《白皮书》第五章，可靠性正向设计指南。”

祁同伟拍板。

复盘细致到令人发指。

每一个成功决策背后的逻辑，每一个失败尝试得到的教训，

甚至每一次团队争论中产生的火花，都被提取、分析、抽象、固化。

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